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清洁 Clean
晶片表面存在的金属、粒子等污染物对设备的性能和产量产生影响时进行清洁，清洁工艺在制程前后反复进行。
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三氟化氮
高纯三氟化氮气体 纯度：5N以上
  • 相对分子质量：71.01 g/mol
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  • CAS号：7783-54-2
  • UN号：UN2451
    • F2/N2
    氟气混氮气
    高纯20%氟气混氮气 纯度：4N以上（F2）/6N以上（N2）
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  • 沸点：-306.6 °F@1atm（F2）/-320.44 °F@1atm（N2）
  • CAS号：7782-41-4（F2）/7727-37-9（N2）
  • UN号：UN1045（F2）/UN1066（N2）